純水設(shè)備中反滲透膜的詳細(xì)使用介紹
【無(wú)錫水處理設(shè)備http://】純水設(shè)備中反滲透膜是實(shí)現(xiàn)反滲透的核心元件,是一種模擬生物半透膜制成的具有一定特性的人工半透膜。
一般用高分子材料制成。如醋酸纖維素膜、芳香族聚酰肼膜、芳香族聚酰胺膜。表面微孔的直徑一般在0.5~10nm之間,透過(guò)性的大小與膜本身的化學(xué)結(jié)構(gòu)有關(guān)。有的高分子材料對(duì)鹽的排斥性好,而水的透過(guò)速度并不好。有的高分子材料化學(xué)結(jié)構(gòu)具有較多親水基團(tuán),因而水的透過(guò)速度相對(duì)較快。因此一種滿意的反滲透膜應(yīng)具有適當(dāng)?shù)臐B透量或脫鹽率。
純水設(shè)備中反滲透膜應(yīng)具有以下特征:(1)在高流速下應(yīng)具有高效脫鹽率;(2)具有較高機(jī)械強(qiáng)度和使用壽命;(3)能在較低操作壓力下發(fā)揮功能;(4)能耐受化學(xué)或生化作用的影響;(5)受pH值、溫度等因素影響較?。?span>(6)制膜原料來(lái)源容易,加工簡(jiǎn)便,成本低廉。
反滲透膜的結(jié)構(gòu),有非對(duì)稱膜和均相膜兩類。當(dāng)前使用的膜材料主要為醋酸酸纖維素和芳香聚酰胺類。其組件有中空纖維式、卷式、板框式和管式??捎糜诜蛛x、濃縮、純化等化工單元操作,主要用于純水制備和水處理行業(yè)中。
反滲透膜過(guò)濾精度
反滲透膜能截留大于0.0001微米的物質(zhì),是最精細(xì)的一種膜分離產(chǎn)品,其能有效截留所有溶解鹽份及分子量大于100的有機(jī)物,同時(shí)允許水分子通過(guò)
材料
純水設(shè)備中根據(jù)脫鹽的需要,經(jīng)過(guò)大量的研究試驗(yàn),從大量的高分子材料中篩選出了醋酸纖維素(CA)和芳香聚酰胺兩大類膜材料。
此外,復(fù)合膜的表皮層還用到了其他一些特殊材料。
醋酸纖維素
醋酸纖維素又稱乙酰纖維素或纖維素醋酸酯。常以含纖維素的棉花、木材等為原料,經(jīng)過(guò)酯化和水解反應(yīng)制成醋酸纖維素,再加工成反滲透膜。
聚酰胺
聚酰胺包括脂肪族聚酰胺和芳香族聚酰胺兩大類。20世紀(jì)70年代應(yīng)用的主要是脂肪族聚酰胺,如尼龍—4、尼龍—6和尼龍—66膜;目前使用最多的是芳香族聚酰胺膜。膜材料為芳香族聚酰胺、芳香族聚酰胺—酰肼以及一些含氮芳香聚合物。
芳香族聚酰胺膜適應(yīng)的pH范圍可以寬到2~11,但對(duì)水中的游離氯很敏感。
復(fù)合膜純水設(shè)備
復(fù)合膜的特征是主要由以上兩種材料制成,它是以很薄的致密層和多孔支撐層復(fù)合而成。多孔支撐層又稱基膜,起增強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度的作用;致密層也稱表皮層,起脫鹽作用,故又稱脫鹽層。脫鹽層厚度一般為50nm,最薄的為30nm。
由單一材料制成的非對(duì)稱膜有下列不足之處:
1、致密層和支持層之間存在被壓密的過(guò)渡層。
2、表皮層厚度最薄極限為100nm,很難通過(guò)減小膜厚度降低推動(dòng)壓力。
3、脫鹽率與透水速度相互制約,因?yàn)橥N材料很難兼具脫鹽和支撐兩者均優(yōu)。
復(fù)合膜很好地解決了上述問(wèn)題,它可以分別針對(duì)致密層和支持層的要求選擇脫鹽性能好的材料和機(jī)械強(qiáng)度高的材料。從而復(fù)合膜的致密層可以做得很薄,有利于降低拖動(dòng)壓力;同時(shí)消除了過(guò)渡區(qū),抗壓密性能好。
基膜的材料以聚砜最為普遍,其次為聚丙烯和聚丙烯腈。因?yàn)榫垌績(jī)r(jià)廉易得,制膜簡(jiǎn)單,機(jī)械強(qiáng)度好,抗壓密性能好,化學(xué)性能穩(wěn)定,無(wú)毒,能抗生物降解。
為進(jìn)一步增強(qiáng)多孔支撐層的強(qiáng)度,常用聚酯無(wú)紡布。
脫鹽層的材料主要為芳香聚酰胺。此外還有哌嗪酰胺、丙烯-烷基聚酰胺與縮合尿素、糠醇與三羥乙基異氰酸酯、間苯二胺與均苯三甲酰氯等。
衡量反滲透膜性能的主要指標(biāo)。純水設(shè)備,實(shí)驗(yàn)室純水設(shè)備, 無(wú)錫純水設(shè)備,無(wú)錫水處理設(shè)備,無(wú)錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
- 上一篇:純水設(shè)備的日常維護(hù)與保養(yǎng)及常見(jiàn)問(wèn)題解決 2021/8/25
- 下一篇:純水設(shè)備中一些詞語(yǔ)的解釋 2021/8/14